Средства и техника рентгенографии. Рентгеновские пленки

Автор: Пользователь скрыл имя, 06 Декабря 2012 в 18:59, реферат

Описание работы

Изображение контролируемого объекта образуется в методе промышленной рентгенографии на рентгеновской пленке. Последняя представляет собой прозрачную (как правило, целлюлозную) основу, на которую с двух сторон нанесены слои эмульсии - раствор желатины со взвесью кристалликов галогенида серебра (в основном, AgBr).

Работа содержит 1 файл

курсач РК.docx

— 41.63 Кб (Скачать)

Средства и  техника рентгенографии. Рентгеновские  пленки

Изображение контролируемого  объекта образуется в методе промышленной рентгенографии на рентгеновской пленке. Последняя представляет собой прозрачную (как правило, целлюлозную) основу, на которую с двух сторон нанесены слои эмульсии - раствор желатины со взвесью кристалликов галогенида серебра (в основном, AgBr).

Под действием проходящего  сквозь пленку рентгеновского излучения, часть кристаллов галогенида серебра  восстанавливается до металлического серебра, образуя скрытое, т. е. пока невидимое, изображение. Важнейшим  свойством пленки является зависимость  между плотностью потемнения и полученной пленкой дозой излучения или, что то же самое, экспозицией - т.е. произведением интенсивности излучения на время его воздействия. 
Соответствующая зависимость достаточно сложна, однако, для всех пленок существует участок, называемый областью нормальных экспозиций, где плотность потемнения приблизительно пропорциональна логарифму экспозиции. Т.е.

D1-D0=y*log(P1/P0)

где: P1, Р0 - экспозиции (дозы), соответствующие плотностям потемнения D1 D0.

Коэффициент y называется средним градиентом пленки. Именно он определяет контрастность получаемого изображения, поэтому наибольшее его значение называется коэффициентом контрастности. Этот коэффициент указывается на упаковке отечественных пленок. Существующие рентгенографические пленки подразделяют на 2 класса:

  • безэкранные пленки, предназначенные для использования без усиливающих экранов или в комбинации с металлическими усиливающими экранами;
  • экранные пленки, предназначенные для использования с флуоресцентными усиливающими экранами.

Последние имеют повышенную чувствительность к оптическому излучению (свечению) флуоресцентных экранов. Наиболее существенным различием пленок является размер зерна кристаллов галогенида серебра. Благодаря малому размеру зерна безэкранные пленки обладают меньшей чувствительностью к излучению, т.е. требуют больших доз излучения, однако, дают более качественное изображение за счет большого коэффициента контрастности. Чувствительность отечественных пленок принято характеризовать обратной величиной дозы излучения, выраженной в рентгенах, необходимой для превышения оптической плотности почернения пленки на 0,85 единиц над плотностью неэкспонированной пленки (вуали). Т.е. если чувствительность пленки 10 Р-1, это означает, что для получения превышения ее оптической плотности над вуалью на 0,85 единиц необходима экспозиционная доза 0,1 Р.

Зарубежные пленки принято характеризовать относительным  экспозиционным фактором по отношению  к одной определенной, принятой за 1. Среди пленок марки СТРУКТУРИКС  фирмы Агфа-Геверт (Бельгия) такой "эталонной" является пленка D7 (табл. 1).

Отечественные пленки поставляются пачками форматом 24x30 и 30x40 см. Пленки СТРУКТУРИКС - помимо этого, также и в упакованном в  светонепроницаемые конверты виде, с  форматами (6,10) х (24,48,72) см. Кроме того, пленки СТРУКТУРИКС поставляются в рулонной упаковке шириной 60, 70 и 100 мм и длиной 90 м.

Таблица 1. Сравнительные  характеристики безэкранных рентгеновских пленок

Тип пленки

Фирма (страна)

Чувствительность

Коэффициент контрастности

Р-1

отн. ед.

РТ-5

АО "ТАСМА" (Россия)

2-3

-

4-4,5

РТ-4М

- " -

3-4

-

3-3,5

РТ-6М

- " -

50-70

-

3

РТ-1

- " -

20-25

-

2,5-3

РТ-2

- " -

30-40

-

2,5

Структурикс D2

Агфа-Геверт (Бельгия)

1,2-1,5

0,1-0,12

5,8-6,0

Структурикс D3

- " -

2-2,5

0,2-0,25

5,0-5,5

Структурикс D4

- " -

3-4

0,3-0,4

5,0-5,4

Структурикс D5

- " -

5-7

0,6-0,7

5,0-5,4

Структурикс D7

- " -

10-12

1

4,9-5,4

Структурикс D8

- " -

15-18

1,5

4,3-4,8

Структурикс D6R

- " -

18-20

1,8-2

4,2

100

Фуджи (Япония)

10-12

1

-

150

- " -

15

1,5

-

Индукс R5

Фома Богемия (Чехия)

6-7

0,7

-

Индукс R7

- " -

10-12

1

-


 

Промышленная рентгеновская  пленка Fujifilm для стабильно высококачественного  неразрушающего контроля

Компания Fujifilm разработала революционно новую технологию создания рентгеновской пленки. Сочетание новейших достижений в области изготовления эмульсий и компьютеризированного производственного процесса гарантирует стабильное качество каждой партии, оптимальные параметры изображения, совместимость с химикатами большинства производителей NDT и актуальными условиями обработки в ручной/автоматической системе. 
 
Пленки из серии Fujifilm сочетают в себе уникальные технологии создания мелкозернистых, чувствительных пленок и могут использоваться в самых различных областях при стабильно высоком качестве вне зависимости от исследуемого материала и источника излучения.

IX20


Области применения

Характеристики

  • Микроэлектронные компоненты
  • Нейтронная радиография
  • Ответственные прецизионные отливки
  • Исключительно Миниатюрные керамические детали
  • Композитные графитные детали

Пленка с одним слоем  эмульсии, исключительно мелким зерном и контрастностью средней степени, предназначенная для областей применения, где необходимы качественные изображения. 
 
Один слой эмульсии сводит размытость изображения к минимуму и дает исключительно резкое изображение даже при применении геометрического увеличения. 
 
IX20 обычно используется с прямым экспонированием или свинцовыми экранами.

Относительная чувствительность *

Класс пленки *

100KV 
с прямым экспонированием

200KV 
со свинцом

Ir-192 
со свинцом

Co-60 
со свинцом

ASTM 
E1815-96

ISO 
11699-1

JIS 
K7627

10

9

8

5

-

-

-


Листы: без прокладок

Возможные варианты упаковки

Листы

NIF – упаковка без бумажных  прокладок


 

        * Чувствительность дана в сравнении  с типом IX100 (стандарт 100)

IX25


Области применения

Характеристики

  • Микроэлектронные компоненты
  • Мелкие керамические детали
  • Отливки: металлы с небольшим или средним атомным числом
  • Области применения, требующие максимальной контрастности
  • Рентгеновское облучение с высоким  и сверхвысоким напряжением

Специальная пленка Fujifilm соответствующая стандарту ASTM с самым мелким зерном и максимальной резкостью и разрешением.  
 
Подходит для исследования новых материалов, например, углепластиков, керамических изделий и микроэлектронных деталей. 
 
IX25 обычно используется с прямым экспонированием или свинцовыми экранами. 
 
IX25 рекомендуется обрабатывать только автоматически

Относительная чувствительность *

Класс пленки *

100KV 
с прямым экспонированием

200KV 
со свинцом

Ir-192 
со свинцом

Co-60 
со свинцом

ASTM 
E1815-96

ISO 
11699-1

JIS 
K7627

20

17

15

10

SPECIAL

C1

T1


Листы: без прокладок

Возможные варианты упаковки

Листы

NIF – упаковка без бумажных  прокладок,  
EPAK – вакуумная упаковка с прокладками без Pb экранов  , EPPB – вакуумная упаковка с прокладками c Pb экранами


 

        * Чувствительность дана в сравнении  с типом IX100 (стандарт 100)

IX50


Области применения

Характеристики

  • Электронные детали
  • Углепластиковые композиты
  • Экспонирование с изотопами с высокой активностью
  • Отливки: металлы с небольшим или средним атомным числом

Пленка ASTM класса 1 с исключительно  мелким зерном и высокой контрастностью, исключительной резкостью и разрешением.  
 
Подходит для исследования любых материалов с низким атомным числом, где необходимо получить очень детальное изображение. Благодаря исключительно мелкому зерну предназначена для применения с высоковольтными рентгеновскими генераторами или изотопами с высокой активностьью..  
 
Продемонстрирован широкий диапазон экспозиции в областях с высокой контрастностью объекта. IX50 обычно используется с прямым экспонированием или свинцовыми экранами.

Относительная чувствительность *

Класс пленки *

100KV 
с прямым экспонированием

200KV 
со свинцом

Ir-192 
со свинцом

Co-60 
со свинцом

ASTM 
E1815-96

ISO 
11699-1

JIS 
K7627

35

30

30

30

I

C3

T2


Листы: без прокладок

Возможные варианты упаковки

Листы

NIF – упаковка без бумажных  прокладок,  
IL – упаковка с бумажными прокладками 
EPAK – вакуумная упаковка с прокладками без Pb экранов  , EPPB – вакуумная упаковка с прокладками c Pb экранами

Рулоны

EPPB – вакуумная упаковка  с прокладками c Pb экранами


 

        * Чувствительность дана в сравнении  с типом IX100 (стандарт 100)

IX80


Области применения

Характеристики

  • Сварные швы: металлы с небольшим или средним атомным числом
  • Отливки: металлы с небольшим или средним атомным числом
  • Производство и обслуживание самолетов
  • Углепластиковые композиты

Пленка ASTM класса Ι с исключительно  мелким зерном и высокой контрастностью подходит для обнаружения мелких дефектов. Она пригодна для исследования материалов с низким атомным числом с помощью источников рентгеновского излучения низкого напряжения, а  также для исследования материалов с более высоким атомным числом с помощью источников рентгеновского или гамма-излучения с высоким  напряжением. Продемонстрирован широкий  диапазон экспозиции в областях с  высокой контрастностью объекта. IX80 обычно используется с прямым экспонированием  или свинцовыми экранами.

Относительная чувствительность *

Класс пленки *

100KV 
с прямым экспонированием

200KV 
со свинцом

Ir-192 
со свинцом

Co-60 
со свинцом

ASTM 
E1815-96

ISO 
11699-1

JIS 
K7627

55

55

55

55

Ι

C4

T2


Листы: без прокладок

Возможные варианты упаковки

Листы

NIF,IL, EPAK, EPPB

Рулоны

NIF, EPAK, EPPB


 

        * Чувствительность дана в сравнении  с типом IX100 (стандарт 100)

IX100


Области применения

Характеристики

  • Сварные швы: металлы со средним или высоким атомным числом
  • Отливки: металлы со средним или высоким атомным числом
  • Производство и обслуживание самолетов
  • Проверка артиллерии

Пленка с очень мелким зерном и высокой контрастностью ASTM класса II подходит для исследования легких металлов с помощью слабоактивных  источников излучения и для исследования толстых, плотных образцов с помощью  источников рентгеновского или гамма-излучения  с высоким напряжением в кВ.  
 
Продемонстрирован широкий диапазон экспозиции в областях с высокой контрастностью объекта. Хотя пленку IX100 обычно используют вместе с прямым экспонированием или свинцовыми экранами, она пригодна для работы с флуоресцентными или флуорометаллическими экранами.

Относительная чувствительность *

Класс пленки *

100KV 
с прямым экспонированием

200KV 
со свинцом

Ir-192 
со свинцом

Co-60 
со свинцом

ASTM 
E1815-96

ISO 
11699-1

JIS 
K7627

100

100

100

100

II

C5

T3

Информация о работе Средства и техника рентгенографии. Рентгеновские пленки