Автор: Пользователь скрыл имя, 16 Февраля 2013 в 10:50, реферат
Формирование регулярно расположенных пор определенного профиля позволяет создавать на основе таких регулярных структур матрицы параболических рентгеновских линз, фотонных кристаллов, сквозных микро - и наномембран. Спектр технических приложений пористого кремния не ограничивается приведенными выше примерами и постоянно расширяется. Этому способствует открытие все новых свойств пористого кремния при совершенствовании технологических операций, изменении, комбинировании условий его получения и модифицирования.
Целью работы было исследование пористого кремния.
Введение ………………………………………………………………………..3
§1. Формирование слоев пористого кремния……………………………………5
§2. Получение пористого кремния анодной поляризацией……………………8
§3. Классификация электрических свойств пористого кремния……………….12
§4. Контактные явления в структурах с пористым кремнием…………………17
§5.Люминисценция пористого кремния…………………………………………..20
§6. Дрейфовая подвижность носителей заряда в пористом карбиде кремния…21
Заключение……………………………………………………………………..25
Список литературы……………………………………………………………..26
Переход (пористый кремний)/(монокристаллический кремний) естественным образом формируется в ходе электрохимической обработки кремниевых пластин и постоянно присутствует в многослойных структурах с пористыми слоями, например. Электрические свойства этого перехода могут быть различны в зависимости от электрофизических параметров ПК. Исходя из теоретических основ работы контакта полупроводников с разным уровнем легирования, гетеропереходов и диодов можно предсказать наличие или отсутствие выпрямления на этой границе для пористых слоев разных групп, что нашло в дальнейшем свое экспериментальное подтверждение. Для ПК 1-й и 2-й групп, полученных на подложках n-типа, выпрямление на переходе ПК-( монокристаллический кремний) отсутствует. Это связано с неизменностью концентрации электронов в кремниевой матрице для ПК 1-й группы и образованием невыпрямляющих переходов n—n-для структур с пористым материалом 2-й группы. Для ПК 3-й и 4-й групп граница ПК/кремний в общем случае обладает заметным выпрямлением. Особенно ярко это проявляется для ПК 3-й группы, полученного на подложках р-типа проводимости, и для ПК 4-й группы. Для ПК 4-й группы это обусловлено тем, что при высоком показателе пористости в результате больших изменений в химическом составе существенно изменяются электронные свойства материала; в случае кристаллитов малых размеров дополнительно увеличивается ширина запрещенной зоны для наночастиц ПК вследствие квантовых размерных эффектов. При этом может происходить формирование как изотипных, так и анизотипных выпрямляющих переходов. В то же время возможны ситуации, для которых сильное выпрямление на границе для слоев ПК 3-й и 4-й групп может отсутствовать. Такие случаи могут наблюдаться для ПК 3-й группы, полученных на подложках p-Si, — после термообработки, для ПК 4-й группы — при малых смещениях на гетеропереходе и т. д.
§5.Люминисценция пористого кремния.
Наиболее удивительным свойством
пористого кремния является его
способность люминесцировать в
видимой области спектра. Для
возбуждения ФЛ использовались как
непрерывные, так и импульсные лазеры
сине-зеленого, фиолетового и
Параметры ФЛ пористого слоя
оказались весьма чувствительными
к термовакуумным обработкам и изменению
свойств среды, в которой находится
образец. Так, интенсивность ФЛ падает
более чем на порядок, если свежевыращенный
образец прогревается в вакууме
при 400С. При этом данные ИК-спектроскопии
свидетельствуют об уходе атомов
водорода с поверхности пористого
кремния, а методом электронного
парамагнитного резонанса регистрируется
появление в пористом кремнии
большого числа дефектов, представляющих
оборванные связи кремния на поверхности
наноструктур. К заметному (5-10 раз) гашению
ФЛ приводит также заполнение пор
жидкостями с высоким значением
статической диэлектрической
На основе приведенных
экспериментальных данных можно
построить количественную модель, позволяющую
объяснить высокую
При малой концентрации дефектов в объемном кристалле возможны два механизма: прямая излучательная рекомбинация свободных электрона и дырки или аннигиляция экситона - системы электрона и дырки, связанных кулоновским взаимодействием. Вероятность последнего процесса на порядок выше вероятности зона-зонной рекомбинации. Однако в массивных образцах кремния энергия связи носителей в экситоне Eexc = 14 мэВ и при комнатной температуре ввиду эффективной термической диссоциации весьма малая часть электронно-дырочных пар оказывается связанной. Это наряду с непрямой структурой энергетических зон кремния и объясняет малое значение квантового выхода ФЛ в c-Si.
Таким образом,
в пористом кремнии уже при
комнатной температуре
§6. Дрейфовая подвижность носителей заряда в пористом карбиде кремния.
Пористый SiC(PSC) в настоящее время рассматривается как материал, способный расширить рамки применения карбида кремния в микроэлектронике. Имеются сообщения о том, что PSC обладает высоким удельным сопротивлением и малой эффективной концентрацией носителей заряда, в то же время транспорт носителей заряда в PSC практически не изучался. Вопрос о механизмах переноса в PSC становится, однако, весьма актуальным, в том числе и в связи с перспективами применения этого материала в приборных структурах.
Исследования дрейфовой подвижности носителей заряда были проведены методом измерения времени пролета носителей через образец. Данный метод позволяет определить подвижность в материалах, в которых интерпретация результатов измерений ее величины традиционными методами (например, при помощи эффекта Холла) затруднена в силу того, что при низких значениях лне выполняется условие применимости кинетического уравнения Больцмана.
Слои PSC были созданы методом поверхностной анодизации пластин 4H-SiCn-типа проводимости в водном растворе плавиковой кислоты по методике, описанной в работе. Плотность тока анодизации составляла 8мА/см2. Часть каждой пластины во время анодизации была закрыта маской, полученные слои PSC имели толщину 5 мкм. Образцы для измерений времени пролета имели структуру типа „сэндвич". Верхним электродом служила напыленная в вакууме на поверхность PSCполупрозрачная пленка алюминия площадью 9 мм2.В качестве нижнего электрода использовалась неанодизированная часть пластины SiC.
Дрейфовой подвижность вычислялась по формуле:
где tT— время пролета носителей заряда через образец в условиях слабой инжекции, которое связано с tmсоотношением tm = 0.8tT.
В другом случае значение дрейфовой подвижности можно определить из выражения для плотности начального тока в условиях ТОПЗ:
j0 = I0/S = j • е • U2/(2.25 • 1013L3) A/см2, (2)
где е — относительная диэлектрическая проницаемость.
Полученные из формулы (1) значения дрейфовой подвижности электронов je и дырок jk в зависимости от приложенного напряжения приведены на рис. 2. Как видно из этого рисунка, при напряженности электрического поля F = 104 В/см je = 6 • 10-3 и jk = 3 • 10-3 см2/В • с, и величина подвижности возрастает при увеличении U.
Установленная зависимость
дрейфовой подвижности от напряженности
электрического поля может свидетельствовать
о дисперсионном характере
Поскольку значения дрейфовой подвижности носителей заряда были вычислены по формуле (1), формула (2) была использована для определения величины е. Подставив в выражение (2) известные значения I0, SL и U, мы получили величину ε ≈ 4. Следует отметить, что полученное значение ε близко к установленному в пористом Si.
Вид зависимостей I(t) и j(F) в PSC также оказался близким к полученным в пористомSi, а низкие значения дрейфовой подвижности в PSC имеют тот же порядок величины. Это позволяет сделать вывод, что в PSC также, как и в пористом Si, перенос носителей заряда контролируется захватом на локализованные состояния. При таком переносе движение носителей в разрешенной зоне с высокой подвижностью µ0, соответствующей омической проводимости, ограничено многократным захватом на ловушки. В PSC локализованные состояния могут возникать, например, на развитой поверхности образовавшихся пор. Дисперсионный характер переноса позволяет говорить о наличии распределения локализованных состояний по энергиям.
Заключение
Использование ПК позволяет
решить такие актуальные технологические
проблемы в электронике, как формирование
толстых (более 1цгп) диэлектрических
пленок, глубоких легированных слоев,
и осуществить эффективное
При исследовании формирования слоев пористого кремния были выявлены такие основные факторы, приводящие к существенной модификации свойств, как:
Исследования дрейфовой подвижности носителей заряда были проведены методом измерения времени пролета носителей через образец. Данный метод позволяет определить подвижность в материалах, в которых интерпретация результатов измерений ее величины традиционными методами (например, при помощи эффекта Холла) затруднена в силу того, что при низких значениях λ не выполняется условие применимости кинетического уравнения Больцмана.
Список литературы
- -