Автор: Пользователь скрыл имя, 27 Декабря 2010 в 14:52, реферат
Полупроводники представляют собой обширную группу веществ, занимающих по величине удельного сопротивления промежуточное положение между диэлектриками и проводниками. Диапазон удельного сопротивления полупроводников при комнатной температуре условно ограничивают значениями 106-108Ом-м. Отличительным свойством полупроводников является сильная зависимость их удельного сопротивления от концентрации примесей. При введении примесей изменяется не только значение проводимости, но и характер ее температурной зависимости.
Германий
кристаллизуется в кубической структуре
типа алмаза, параметр элементарной ячейки
а = 5, 6575. Плотность твёрдого германия
5,327 г/см3 (25°С); жидкого 5,557
(1000°С); tпл 937,5°С; tkип
около 2700°С; коэффициент теплопроводности
~60 вт/(м (К), или 0,14 кал/(см
(сек (град)
при 25°С. Даже весьма чистый германий хрупок
при обычной температуре, но выше 550°С
поддаётся пластической деформации. Твёрдость
германия по минералогической шкале 6—6,5;
коэффициент сжимаемости (в интервале
давлений 0—120 Гн/м2 или 0—12000
кгс/мм2) 1,4·10—7
м2/мн (1,4·10—6
см2/кгс); поверхностное
натяжение 0,6 н/м (600 дин/см).
Германий — типичный полупроводник с
шириной запрещенной зоны 1,104·10—19,
или 0,69 эв (25°С); удельное электросопротивление
германия высокой чистоты 0,60 ом
(м (60 ом (см) при 25°С; подвижность
электронов 3900 и подвижность дырок 1900
см2/в.
сек (25°С) (при содержании примесей
менее 10—8%). Прозрачен для инфракрасных
лучей с длиной волны больше 2 мкм.
2.2 Соединения германия
В
химических соединениях
При взаимодействии Г. с галогенами образуются соответствующие тетрагалогениды. Наиболее легко реакция протекает с фтором и хлором (уже при комнатной температуре), затем с бромом (слабое нагревание) и с иодом (при 700—800°С в присутствии CO). Одно из наиболее важных соединений германия тетрахлорид GeCl4 — бесцветная жидкость; tпл —49,5°С; tkип 83,1°С; плотность 1,84 г/см3 (20°С). Водой сильно гидролизуется с выделением осадка гидратированной двуокиси. Получается хлорированием металлического германия или взаимодействием GeO2 с концентрированной НС1. Известны также дигалогениды Г. общей формулы GeX2, монохлорид GeCl, гексахлордигерман Ge2Cl6 и оксихлориды Г. (например, GeOCl2).
Сера энергично взаимодействует с германием при 900—1000°С с образованием дисульфида GeS2 — белого твёрдого вещества, tпл 825°С. Описаны также моносульфид GeS и аналогичные соединения германия с селеном и теллуром, которые являются полупроводниками. Водород незначительно реагирует с Г. при 1000—1100°С с образованием гермина (GeH) x — малоустойчивого и легко летучего соединения. Взаимодействием германидов с разбавленной соляной кислотой могут быть получены германоводороды ряда GenH2n+2 вплоть до Ge9H20. Известен также гермилен состава GeH2. С азотом германий непосредственно не реагирует, однако существует нитрид Ge3N4, получающийся при действии аммиака на германий при 700—800°С. С углеродом германий не взаимодействует. Германий образует соединения со многими металлами — германиды.
Известны
многочисленные комплексные
2.3 Получение германия.
В промышленной практике германий получают преимущественно из побочных продуктов переработки руд цветных металлов (цинковой обманки, цинково-медно-свинцовых полиметаллических концентратов), содержащих 0,001—0,1% германия. В качестве сырья используют также золы от сжигания угля, пыль газогенераторов и отходы коксохимических заводов. Первоначально из перечисленных источников различными способами, зависящими от состава сырья, получают германиевый концентрат (2—10% германия). Извлечение германия из концентрата обычно включает следующие стадии:
1) хлорирование
концентрата соляной кислотой, смесью
её с хлором в водной среде
или др. хлорирующими агентами
с получением технического GeCl4. Эти процессы можно
представить уравнениями реакций:
GeO2+4HCl=GeCl4+2H2O.
2) Гидролиз GeCl4
и прокаливание продуктов гидролиза до
получения GeO2. Температура кипения
полученного тетрахлорида германия 83°
C. Так как вместе с ним в сконденсированной
жидкости имеются и другие соединения,
то его подвергают ректификации и экстракции
примесей концентрированной HCl. После
этого тетрахлорид германия переводят
в двуокись по уравнению
GeCl4+(x+2)H2O=GeO2xH2O+4HCl.
3) Восстановление
GeO водородом или аммиаком до
металла. Полученную чистую двуокись германия
восстанавливают в трубчатой электрической
печи водородом. Восстановление протекает
по реакции
GeO2+2H2=Ge+2H2O,
При температуре 600°C, в течение 20-50 мин,
после чего лодочка с восстановленным
германием передвигается в зону более
высоких температур и при 1000-1100°C происходит
сплавление.
Для выделения очень чистого германия, используемого в полупроводниковых приборах, проводится зонная плавка металла. Необходимый для полупроводниковой промышленности монокристаллический германий получают обычно зонной плавкой или методом Чохральского.
2.4
Применение германия
Германий — один
из наиболее ценных материалов в современной
полупроводниковой технике. Он используется
для изготовления диодов, триодов, кристаллических
детекторов и силовых выпрямителей.Германиевые
диоды и триоды нашли широкое применение
в радиоприемниках и телевизорах, счетно-решающих
устройствах и в разнообразной измерительной
аппаратуре.Германий применяют и в других
первостепенно важных областях современной
техники: для измерения низких температур.
Монокристаллический германий применяется также в дозиметрических приборах и приборах, измеряющих напряжённость постоянных и переменных магнитных полей. Важной областью применения германия является инфракрасная техника, в частности производство детекторов инфракрасного излучения, работающих в области 8—14 мк. Перспективны для практического использования многие сплавы, в состав которых входят германий, стекла на основе GeO2 и др. соединения германия.
Полупроводник
германий нашел применение при решении
другой важной проблемы – созданию
сверхпроводящих материалов, работающих
при температуре жидкого
2.5 Заменители германия
Более дешевый
кремнии и сплавы Ga, In,Se,. Те могут
заменить германий в некоторых
электронных применениях.
Исследуются возможности использования
новых катализаторов для замены германия
при получении пластиков. Тенденция к
обесцвечиванию пластиков способствует
появлению катализаторов на алюминиевой
и титановой основе, при этом также снижаются
затраты на производство пластиков.
3. Методы измерения удельной проводимости полупроводников
3.1 Проводимость полупроводников
При приложении электрического поля к однородному полупроводнику в последнем протекает электрический ток. Рассмотрим для примера электронный полупроводник (3.1). Плотность тока определяется концентрацией свободных носителей n , средней дрейфовой скоростью и зарядом e :
Средняя скорость дрейфа очень просто связана с параметром, характеризующим рассеяние носителей заряда при их движении в решётке кристалла - средним временем свободного пробега носителей , напряжённостью электрического поля , зарядом и эффективной массой дырки или электрона (3.1):
где m - подвижность.
Таким образом, из (3.1), (3.2) следует
а из закона Ома в дифференциальной форме следует, что величина e×n×m имеет смысл удельной электрической проводимости:
Если имеется полупроводник с обоими типами носителей заряда, то
При наличии двух типов свободных носителей - электронов и дырок - проводимость σ полупроводника будет определяться суммой электронной σn и дырочной σp компонент проводимости σ=σn+σp. Величина электронной и дырочной компонент в полной проводимости определяется классическим соотношением:
где μn и μp - подвижности электронов и дырок соответственно.
Для легированных полупроводников концентрация основных носителей всегда существенно больше, чем концентрация неосновных носителей, поэтому проводимость таких полупроводников будет определяться только компонентой проводимости основных носителей. Так, для полупроводника n-типа
Величина, обратная удельной проводимости, называется удельным сопротивлением:
Здесь ρ - удельное сопротивление, обычно измеряемое в единицах [Ом·см]. Для типичных полупроводников, используемых в производстве интегральных схем, величина удельного сопротивления находится в диапазоне ρ = (1 ÷ 10) Ом·см.
В отраслевых стандартах для маркировки полупроводниковых пластин обычно используют следующее сокращенное обозначение типа: КЭФ-4,5. В этих обозначениях первые три буквы обозначают название полупроводника, тип проводимости, наименование легирующей примеси. Цифры после букв означают удельное сопротивление, выраженное во внесистемных единицах, - Ом·см. Например, ГДА-0,2 - германий, дырочного типа проводимости, легированный алюминием, с удельным сопротивлением ρ = 0,2 Ом·см; КЭФ-4,5 - кремний, электронного типа проводимости, легированный фосфором, с удельным сопротивлением ρ = 4,5 Ом·см.
Если полупроводник легирован примесными атомами какого либо одного сорта с малой энергией ионизации (например, атомами B, P, As в Si и Ge ), то приближённо можно считать, что уже при комнатной температуре вся примесь однократно ионизирована, т.е. n » N или p»N, где N - полная концентрация легирующей примеси. И, если известно m , то по s или по r , которые можно непосредственно измерить, определяется N. Концентрация легирующей примеси является очень важным параметром полупроводникового материала. Непосредственно для наиболее важных полупроводниковых материалов (Si, Ge, GaAs) обоих типов N удобно определять по графику Ирвина.(см. рис.3.1.)
Рис.3.1.График
Ирвина. Зависимость удельного сопротивления
от концентрации легирующей примеси для
полупроводников N
и P типа проводимости.