Автор: Пользователь скрыл имя, 12 Января 2011 в 15:34, курс лекций
17 лекций.
Лекция №17
Лучевые методы обработки.
Электроннолучевая обработка
Схемы обработки.
Возможности электроннолучевой обработки
Сущность
электроннолучевой обработки
Рис.1
Схема установки для
Точность диаметра отверстия, полученного при обработки 0,01-0,05 мм.
Источником электронного луча является катод 1 представляющий собой вольфрамовую спираль, которая нагревается до t=2600…2800 C.
При этой температуре происходит термоэлектронная эмиссия катода. Около катода находится фокусирующий элемент 2, на который подается отрицательное, относительно катода, напряжение (напряжение смещения), задачей которого является предварительная фокусировка электронного луча и управляет его интенсивностью.
Для ускорения электронов служит анод 3, на который подается напряжение до 150 кВт. Фокусирующие катушки 4 расположены во взаимно перпендикулярных плоскостях, и управляют электронным лучом, направляя его между в электронно-оптический центр магнитной фокусировки системы 6.
Между системами 4 и 6 расположена диафрагма 5 из вольфрама с водяным охлаждением. Она служит для отсечения рассеянных электронов. Фокусное расстояние магнитной линзы 6 изменяется в зависимости от изменения тока, проходящего через обмотку.
Ниже фокусирующей системы 6 расположены отклоняющие катушки 7, которые обеспечивают перемещение фокуса луча по поверхности заготовки 8. Вакуумная камера 9, обеспечивает требуемое разрежение.
При обработке заготовок, требующих значительного перемещения луча по поверхности, применяется система перемещения самой заготовки.
Электроннолучевая
обработка используется в основном
в микроэлектронике при изготовлении
прецизионных отверстий, и сварки ответственных
малогабаритных изделий.
Литература
Рассмотрено на заседании
кафедры ФХПиТ
Протокол N от ________2000г.
Зав.кафедрой ФХПиТ
_______________ В.В.Любимов
Информация о работе Лекции по физико-химическому процессу обработки