Ионноплазменный метод повышения износостойкости инструмента и деталей машин

Автор: Пользователь скрыл имя, 05 Января 2012 в 15:41, реферат

Описание работы

В основе метода положен принцип осаждения частиц (атомов, ионов, кластеров) на поверхности изделий в вакууме из плазмы, генерируемой тем или иным способом. При этом объемные свойства обрабатываемых изделий не нарушаются, а изменяются свойства поверхности, придавая ей требуемые функциональные характеристики.

Содержание

ВВЕДЕНИЕ
1. ХАРАКТЕРИСТИКА ПРОЦЕССА ИОННО-ПЛАЗМЕННОГО НАНЕСЕНИЯ
2. ИОННОЕ ОСАЖДЕНИЕ МАТЕРИАЛОВ
3. РЕАКТИВНОЕ ИОННО-ПЛАЗМЕННОЕ НАНЕСЕНИЕ МАТЕРИАЛОВ
4. РАЗНОВИДНОСТИ ПРОЦЕССА ИОННО-ПЛАЗМЕННОГО НАНЕСЕНИЯ ПЛЕНОК
4.1 УСТРОЙСТВА КАТОДНОГО РАСПЫЛЕНИЯ НА ПОСТОЯННОМ ТОКЕ
4.2 ТРИОДНЫЕ УСТРОЙСТВА ИОННО-ПЛАЗМЕННОГО НАНЕСЕНИЯ
4.3 УСТРОЙСТВА ВЫСОКОЧАСТОТНОГО РАСПЫЛЕНИЯ
4.4 МАГНЕТРОННЫЕ РАСПЫЛИТЕЛЬНЫЕ СИСТЕМЫ
4.5 ИОННО-ЛУЧЕВОЕ РАСПЫЛЕНИЕ
5. ИОННО-ЛУЧЕВОЕ ОСАЖДЕНИЕ ТОНКИХ ПЛЕНОК
5.1 ОСАЖДЕНИЕ ТОНКИХ ПЛЕНОК ИЗ ИОННЫХ ПУЧКОВ
5.2 РЕАКТИВНЫЙ ИОННО-ЛУЧЕВОЙ СИНТЕЗ ТОНКИХ ПЛЕНОК
6. ИОННО-ПЛАЗМЕННОЕ НАПЫЛЕНИЕ
ЗАКЛЮЧЕНИЕ
СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ

Скачать полностью (113.61 Кб) Сколько стоит заказать работу?
Работа содержит 1 файл

Документ Microsoft Word (3).docx

— 116.74 Кб (Скачать)

 

      ЗАКЛЮЧЕНИЕ 

     Разновидности процесса ионно-плазменного нанесения  пленок отличаются техническими средствами, обеспечивающими создание плазмы и  бомбардировку распыляемой мишени. В установках для нанесения пленок используют устройства катодного распыления на постоянном токе, триодные устройства ионно-плазменного нанесения, устройства высокочастотного (ВЧ) распыления, магнетронные распылительные системы и устройства для ионно-лучевого нанесения.

     Недостатки  наиболее распространенных методов  осаждения тонких пленок (магнетронное или ионно-лучевое распыление, плазмостимулированные  методы) связаны с ограниченными  возможностями управления энергией осаждаемых частиц, с переносом вещества к подложке по закону «косинуса» и  трудностями контроля количества осаждаемого  вещества.

     Для управления электрофизическими, оптическими  и механическими свойствами формируемых  пленок необходимо изменять энергию, величину, состав и направленность потока осаждаемых частиц. Такими возможностями обладают ионно-лучевые методы осаждения. 

 

      СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ 

  1. Григорьев Ф.И. «Осаждение тонких пленок из низкотемпературной плазмы и ионных пучков в технологии микроэлектроники». Учебное пособие / Моск. гос. ин-т электроники и  математики. – Москва, 2006.
  2. Свадковский И.В. «Направления развития магнетронных распылительных систем». – Минск, БГУИР, 2007.
  3. Интернет ресурс: http://www.plasmacentre.ru.

     Размещено на Allbest.ru 

Информация о работе Ионноплазменный метод повышения износостойкости инструмента и деталей машин