Автор: Пользователь скрыл имя, 29 Ноября 2011 в 14:09, курсовая работа
Курсовой проект ставит своей целью разработку тонкоплёночной гибридной схемы. Разработанная гибридная схема позволит уменьшить массу и габариты разрабатываемого устройства, в котором будет применена эта схема.
Введение 3
1 Задание на курсовую работу 4
2 Анализ технического задания 5
3 Выбор навесных компонентов 6
4 Расчёт геометрических размеров элементов 7
4.1 Конструктивный расчёт тонкоплёночных резисторов 7
4.2 Конструктивный расчёт тонкоплёночных конденсаторов 11
4.3 Конструирование тонкоплёночных контактов 14
4.4 Конструктивный расчёт межсоединений 16
5 Разработка конструкции микросхемы 17
6 Выбор материала подложки 18
7 Расчёт теплового режима 19
8 Расчёт надёжности 21
Заключение 22
Список литературы
hП и hК – толщина подложки и клеевого слоя, соответственно, hП = 0,6 мм hК = 0,1 мм;
S - площадь контакта тепловыделяющего элемента с подложкой.
Тепловое
сопротивление в этом случае определяется
по формуле:
, | ( 34 ) |
где q = l/2h; r = b/2h;
l и b - линейные размеры источника теплоты
. | ( 35 ) |
Значение функции γ(q, r) для различных конструкций корпусов приведены в [1].
.
Определим
перегрев элементов, НАК и области
р-n перехода, НАК и корпуса за счет рассеиваемой
ими мощности:
, | ( 36 ) |
, | ( 37 ) |
, | ( 38 ) |
, | ( 39 ) |
где RTBН – внутреннее тепловое сопротивление НАК. RTBН = 630 ºС/Вт;
ΘВН - перегрев области р – n перехода НАК относительно подложки;
ΘЭ и ΘНАК – перегрев элемента и НАК, определяется как разность между их температурой и средней температурой поверхности корпуса;
Θк - перегрев корпуса относительно температуры окружающей среды;
Рэ и Рнак - рассеиваемая мощность элементами и НAК, соответственно;
Р - суммарная мощность, рассеиваемая ГИМС;
RK -
тепловое сопротивление корпуса, равное
RK = 1/(St·α), | ( 40 ) |
где St - площадь теплового контакта подложки с корпусом;
α - коэффициент теплопроводности
(α = 3000 Вт/(м·ºС))
Определим
температуру элементов
ТЭ = ТСМАХ + ΘК + ΘЭ | ( 41 ) |
ТЭR2 = 40 + 0,68 + 16 = 56,68 ºС
Определим
температуру НАК
ТНАК = ТСМАХ + ΘК + ΘНАК + ΘВН | ( 42 ) |
ТНАК = 40 + 0,68 + 5 +31,5 = 77,18 ºС
Проверим
выполнение условий
ТЭ < ТМАХДОП | ( 43 ) |
где
ТМАХДОП = 85 ºС
ТНАК < ТМАХДОП | ( 44 ) |
где
ТМАХДОП = 85 ºС
8 Расчет надежности
Основными
показателями, характеризующими надёжность
ГИМС, является вероятность безотказной
работы на заданном отрезке времени
P(t) (3000 ч) и среднее время наработки на
отказ ТСР:
Р(t)
= exp( - λΣt),
ТCP
= 1/λΣ,
где λΣ
= nλRα1Rα2R + mλCα1Cα2C
+ lλHTα1Tα2
+ pλКПα1КП,
(47)
где λR – интенсивность отказов пленочных резисторов (λR = 10-9 1/час);
λС – интенсивность отказов пленочных конденсаторов (λС = 0,5·10-8 1/час);
λНТ – интенсивность отказов транзисторов (λНТ = 10-8 1/час);
λКП – интенсивность отказов контактных соединений (λКП = 10-9 1/час);
n, m, l, p – количество однотипных элементов или компонентов в микросборке;
α1 – коэффициент, характеризующий зависимость интенсивности отказов от температуры (α1R = 1,8; α1C = 15; α1T = 2; α1КП = 1; при T = 85 ºС);
α2
– коэффициент, характеризующий зависимость
интенсивности отказов от электрической
нагрузки (α2R =
Рi/PДОП; α1C
= Ui/UДОП; α1T
= Ui/UДОП; α1КП
= 1).
λΣ
= 5·10-9·1,8·(0,11+0,158+0,158+
P(3000)
= exp (-3000·3,1·10-8) = 0,9999
TСР = 3,23·107 часов > 3·103 часов
Заключение
В процессе проделанной работы мы ознакомились с методами проектирования гибридных интегральных микросхем, в особенности с условием технического задания был спроектирован видеоусилитель на основе тонкопленочной технологии методом фотолитографии с применением навесных компонентов.
Список литературы
1.
Конструирование и технология
микросхем. Курсовое проектирование.
Учебное пособие для вузов. Под редакцией
Л. А. Коледова М: - Высшая школа, 1984 - 231с.
2.
Матсон Э. А. Кржижановский
Д. В. Справочное пособие по
конструированию микросхем; Минск:
Высшая школа, 1974 – 208c.
3.
Конструирование технология
4.
Конструирование и расчет