Вакуумное напыление

Министерство  образования и науки Российской Федерации

Казанский национальный исследовательский

технический университет – КАИ им. А.Н. Туполева 

 

Кафедра Технической физики

 
 
 
 
 
 
 
 

Реферат по вакуумной и плазменной электронике  на тему:

 

«Вакуумное напыление»

 
 
 
 
 
 
 

                                                                                                Выполнил: студент гр. 2311

                                                                                                                        Латыпова А.Р.

                                                                    Проверил:

                                                                                                                       Ахметзянов Р.Ш.

 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 

Казань  2011 г

 
 
 
 

СОДЕРЖАНИЕ

 

Введение  ……………………………………………………………… 3

Закономерности  испарения и кондетсации металлов в вакууме…………………………………………………………………  4

Техника испарения  металлов в вакууме…………………………………………………………… 8

Конструкции прямоканальных испарителей…………………………………………………………… 9

Основные принципы работы электронно-лучевых и электордуговых испарителей……………………………………………………………11

Магнитронные  распылительные системы………………………………………………………………….14

Заключение ……………………………………………………………  17

Список  литературы……………………………………………………  18

 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 

ВВЕДЕНИЕ

 

Интенсивное развитие метода испарения и конденсации  в вакууме за последние годы обусловлено  универсальностью технологии, высокой  производительностью процесса нанесения  покрытий, малой энергоёмкостью и  рядом других преимуществ по сравнению с традиционными методами получения покрытий различного функционального назначения (гальваническим осаждением, плакированием, плазменным напылением, катодным распылением). Одно из основных преимуществ метода испарения и конденсации в вакууме – экологически чистая технология.

 

            Постоянно возрастающие потребности  народного хозяйства и разнообразие  номенклатуры металлизируемой продукции  обусловили появление широкого  класса специальных вакуумных  установок, предназначенных для решения конкретных производственных задач – металлизации рулонных и полосовых материалов, нанесение защитных, износостойких, декоративных покрытий на металлические и неметаллические материалы, изготовление различных плёночных элементов электронной техники.

 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 

ЗАКОНОМЕРНОСТИ  ИСПАРЕНИЯ И КОНДЕТСАЦИИ  МЕТАЛЛОВ        В ВАКУУМЕ

 

            Процесс получения плёнок и  покрытий методом испарения и  конденсации в вакууме состоит  из двух этапов: испарения вещества  в вакууме и последующей конденсации паров на подложке. Испарение различных материалов в вакууме, в том числе и металлов, происходит при нагревании до температуры плавления и испарения (сублимации) либо при распылении (методы катодного и магнетронного распыления). Металлы можно нагревать резистивным методом (испарители прямонакального и косвенного нагрева), электронным лучом, электрической дугой, токами высокой частоты. Способы нагрева, определяющие конструкции соответствующих внутрикамерных устройств промышленных вакуумных установок, детально описаны в инструкции по эксплуатации установок. Большая часть металлов при нагреве переходит в паровую фазу через жидкое состояние, т.е. сначала они плавятся, а затем испаряются. Некоторые металлы (Cd, Zn, Mn и в отдельных случаях чистый Cr) переходят из твёрдого состояния, в паровую фазу минуя жидкую (сублимируют).

 

            Скорость испарения Vи, кг/(м2с), всех веществ определяется давлением  паров p, Па, при температуре Tи, K, испарения и молекулярной массой M вещества:

 

Vи = 0.438•10 –2 p ÖM/Tи = A1 p                              (1.1)

 

Зависимость давления паров от температуры в общем, виде описываются уравнением

 

lg p =AT –1 + B lg T + CT + DT 2 + E (1.2)

 

где А, В, С, D и  Е – константы, характерные для  данного вещества.

 

            При проведении экспериментов обычно ограничиваются коэффициентами А, В, и Е. Значение коэффициента В следует учитывать только для Na, K, Rb, Cs, Zn, Cd и Hg.

 

            Характер распределения испаряемого  вещества в пространстве над  испарителем определяется двумя основными параметрами: рабочим давлением в вакуумной камере:       высокий вакуум (l >> d), средний вакуум (l » d) и низкий вакуум (l <<  d), где l - длина свободного пути молекул; d – линейный размер вакуумной камеры. Если давление паров испаряемого вещества (металла) при температуре Tи не превышает 1.33 Па, то при рабочем давлении в вакуумной камере порядка 10 –2 Па и менее молекулы и атомы испаряемого вещества достигают поверхности подложки без столкновений между собой и с молекулами остаточных газов. В этом случае говорят, что реализуется молекулярный режим испарения и конденсации, для которого справедливы законы Ламберта – Кнудсена:

 

            распределение в пространстве  потока вещества, испарённого с  плоской поверхности, пропорционально  cosj (j - угол между направлением распространением паров и нормалью к поверхности);

 

            число частиц, попадающих на поверхность  подложки, обратно пропорционально  квадрату расстояния между испарителем  и подложкой.

 

            Эти законы являются базовыми при анализе закономерностей формирования плёнок на поверхностях различной конфигурации.

 

            При анализе процесса формирования  покрытий на положках следует  выделить два аспекта – физический  и технологический.

 

            Физический аспект отражает закономерности формирования начальных слоёв покрытия, характер продольной и поперечной структур, рельефа поверхности и др. Не рассматривая детально теорию зародышеобразования и основные закономерности начального роста кристаллов, отметим, что процесс конденсации и структура сформированной плёнки существенно зависят от кинетических параметров конденсации, температуры и потенциального рельефа подложки, плотности падающего молекулярного пучка, характера взаимодействия осаждаемых атомов с подложкой. Из указанных параметров существенным является температура подложки. Многочисленными исследованиями установлено, что на нейтральной (неориентированной) подложке молекулярный пучок конденсируется только в том случае, если температура ниже некоторой критической Tкр.

 

            Принципиально возможны и реализуются  на практике два механизма  конденсации молекулярных пучков  испарённых веществ на различных  подложках – ПК(пар – кристалл) и ПЖК(пар – жидкость – кристалл). Если реализуется механизм ПК, то частицы, конденсирующиеся на начальных стадиях испарения навески, имеют кристаллическое строение, и в дальнейшем формируется только кристаллическая плёнка. Механизм ПЖК проявляется в том, что образование конденсированной фазы на подложке начинается с появления на подложке жидкой фазы в виде капель, которые длительное время существуют на подложке, после чего начинается процесс кристаллизации.

 
 
 
 
 

         1                     2                    3

 

 

а

 
 
 
 
 

б 

 
 
 

            Рассмотренные механизмы кристаллизации  определяют различные характеры формирования и роста плёнки из паровой фазы, что в конечном счёте определяет свойства плёнок. Схематически механизмы конденсации ПК и ПЖК показаны на рис. 1. Если конденсируемые атомы связаны с собой сильнее, чем с поверхностью нейтральной подложки, они свободно и достаточно интенсивно мигрируют с её поверхности. При достаточно  высокой плотности потока испаряемого вещества на поверхности подложки образуются зародыши кристаллической фазы или жидкой конденсированной фазы, которые сначала разрастаются сначала в двух (Рис.1, б, стадия 3), я затем и в трёх направлениях. Если же силы взаимной связи атомов или молекул конденсирующегося вещества меньше сил их связи с подложкой, резко возрастает влияние кинетических параметров подложки на процесс формирования плёнки по механизму ПК. В таблице 1 даны примеры механизмов конденсации различных металлов на аморфных подложках. Следует отметить, что механизм конденсации зависит (в первом приближении) от соотношения температур подложки Tп и температур плавления Tпл конденсирующихся веществ. При изменении Tп может измениться механизм конденсации. При конденсации молекулярных пучков сложного состава (например, при нанесении покрытий из сплавов) механизм конденсации зависит и от состава паровой фазы. Приведённые в таблице 1 данные установлены для случая формирования плёнок «докритической» толщины, т.е. до момента образования сплошного слоя. После завершения формирования сплошного слоя закономерности дальнейшего роста плёнки определяются не непосредственно механизмом конденсации материала, а в основном структурой первично сформированных слоёв.

 

            Технологический аспект процесса  конденсации отражает характер  распределения толщины плёнки  вдоль поверхности подложки и  рассматривает влияние геометрических параметров испарения (размеров и формы испарителей и подложки, их взаимного расположения) и режима металлизации на равномерность толщины покрытия.

 

Таблица 1

 
 

 
 

Для анализа  равнотолщинности используют, как правило, идеальную модель испарения и  конденсации, которая предусматривает выполнение законов Ламберта – Кнусена и формулы Лэнгмюра для скоростей испарения, а также полную конденсацию паров испарённого вещества на подложке (коэффициент конденсации равен 1 независимо от материала подложки и интенсивности потока испарённого вещества). Процесс испарения происходит с зеркальной поверхности расплава.

 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 

ТЕХНИКА ИСПАРЕНИЯ МЕТАЛЛОВ В ВАКУУМЕ

 

            Качество формируемых покрытий, технологические возможности оборудования  для напыления, техника проведения процесса нанесения покрытий и ряд других практических вопросов во многом определяются выбором материала испарителя (тигля) с учётом физико-химических свойств испаряемого вещества, а также возможных взаимодействий испаряемого вещества с испарителем. В литературе  есть сведения, позволяющие подобрать не только материал испарителя, но и наиболее оптимальную его конструкцию с учетом специфики получения покрытий конкретного функционального  назначения.                                                                                                                                                                      

 

Технологические параметры  процесса нанесения покрытий  определяются в основном способностью испарителя поддерживать испаряемое вещество при определенной температуре длительное время. Для получения приблизительных оценок рабочих температур испарителей нужно учитывать, что нормальный (технологически) режим металлизации реализуется при давлении паров испаряемого вещества порядка 1.33 Па. Для большей части материалов, применяемых в практике вакуумной металлизации для получения покрытий, рабочие температуры составляют  1300…2500 К.

 

Основные требования к материалу испарителя: незначительное (минимально возможное) давление насыщенного  пара при рабочей температуре; инертность по отношению к испаряемому материалу; обеспечение возможности изготовления различных конструкций.